因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC
160是目前考夫曼 KDC 系列大,离子能量强的栅极离子源,
适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC 160 高输出设计,大电流超过 1000
mA. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计,标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数
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型号
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KDC 160
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供电
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DC magnetic
confinement
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- 阴极灯丝
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2
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- 阳极电压
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0-100V DC
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电子束
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OptiBeam™
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- 栅极
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专用, 自对准
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-栅极直径
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16 cm
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中和器
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灯丝
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电源控制
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KSC 1212
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配置
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-
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- 阴极中和器
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Filament,
Sidewinder Filament 或LFN 2000
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- 安装
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移动或快速法兰
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- 高度
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9.92
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- 直径
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9.1
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- 离子束
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聚焦
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平行
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散设
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-加工材料
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金属
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电介质
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半导体
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-工艺气体
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惰性
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活性
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混合
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-安装距离
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8-45”
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- 自动控制
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控制4种气体
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* 可选: 可调角度的支架
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KRI 考夫曼离子源 KDC
160 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构
IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立
Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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上海伯东: 罗先生
